創(chuàng)傷性口炎是由什么原因引起是口腔執(zhí)業(yè)助理醫(yī)師考試要求掌握的內容，醫(yī)學教育網(wǎng)搜集整理相關內容供大家參考。

　　一、機械性因素

　　這是創(chuàng)傷性口炎最多見的原因，常形成創(chuàng)傷性潰瘍。按刺激持續(xù)時間的不同，可分為持久性及非持久性刺激因素。持久性刺激因素包括齲齒破壞后的殘冠、殘根、尖銳的牙尖，經(jīng)磨損后的牙齒銳緣，不良修復體的卡環(huán)、尖銳邊緣，過長的基板，舌系帶過短時與新生下頜乳切牙的摩擦等均是長期存留在口腔內可以引起慢性創(chuàng)傷性損害的因素。非持久性機械刺激包括硬、脆食物（如油炸或烘烤過的較硬食物）、硬橡皮制成的奶嘴、咀嚼不慎時的咬傷、牙刷太舊不整齊的刷毛、刷牙用力不當、口腔科醫(yī)師使用器械操作不當、或其他外傷等均可對口腔粘膜造成急性損傷。

　　二、化學因素

　　常見的化學物質為具有腐蝕性的強酸、強堿，口腔治療用藥酚、硝酸銀、三氧化二砷等接觸了口腔粘膜。臨床上多見于誤入口腔或使用不當，有時則為自傷性。

　　三、物理性因素

　　口腔粘膜的熱損傷并不多見，偶因飲料、茶水或食物過燙時引起粘膜燙傷。超過一定劑量放射線全身或頭面部照射，可引起全身和口腔組織損傷，造成急性放射病和/或放射性口炎，主要變化是炎癥。戰(zhàn)時發(fā)生在核武器爆炸后，和平時期多因惡性腫瘤的放射治療或因輻射事故引起。