相信很多人對口腔病理科住院醫(yī)師規(guī)范化培訓習題及答案解析非常感興趣，醫(yī)學教育網整理相關內容如下，希望對大家有幫助！

題干：下列部位是使用可摘局部義齒最容易造成疼痛的部位，除了

A 尖牙唇側

B 牙槽嵴頂

C 上頜隆突

D 上頜結節(jié)頰側

E 內斜嵴處

參考答案：B

解析：患者戴用可摘局部義齒后最易造成疼痛的部位是選項A、C、D、E所述的部位，因為這些部位是骨質突起的部位，該部位黏膜較薄、彈性差，不易緩沖力，所以容易出現戴牙后的疼痛。而選項B中的牙槽嵴表面有高度角化的復層鱗狀上皮，其下有致密的黏膜下層，能承受咀嚼壓力，該區(qū)是合力主承托區(qū)，戴義齒后正常情況下不該出現疼痛，故應選B.

題干：為消除可摘局部義齒不穩(wěn)定，錯誤的方法是

A 增加對抗平衡固位體

B 盡力設計黏膜支持式義齒，以避免產生支點

C 在支點或支點線的對側加平衡力

D 消除合支托，卡環(huán)在余留牙上形成的支點

E 消除基托下與組織形成的支點

參考答案：B

解析：消除可摘局部義齒不穩(wěn)定的方法有，增加對抗平衡固位體，平衡力；消除支點。選項A、C、D、E符合上述要求。選項B中設計黏膜支持式義齒可造成義齒因無支持而均勻地下沉致不穩(wěn)定，所以黏膜支持式義齒不能避免產生支點，選項B錯。故應選B.

題干：初戴上頜局部義齒時，如果發(fā)現彎制的后腭桿離開腭黏膜2mm，處理方法是

A 不必處理

B 腭桿組織面加白凝樹脂重襯

C 腭桿組織面緩沖

D 去腭桿，讓患者戴走

E 取下腭桿，戴義齒取印模，在模型上重新加腭桿

參考答案：E

解析：后腭桿一般應離開黏膜0.5～1mm，該題目設計離開黏膜過高，因此應重新取印模重新制作腭桿，故此題選E.

題干：患者兩上頜側切牙缺失，缺牙間隙略小，兩中切牙之間有一2mm間隙，最佳的修復方案為

A 只固定橋修復缺牙

B 先正畸關閉兩中切牙之間間隙，再修復

C 先光敏樹脂關閉兩中切牙之間間隙，再修復

D 可摘局部義齒修復缺牙以及牙間隙

E 兩中切牙烤瓷冠修復，然后可摘局部義齒修復缺牙

參考答案：B

解析：患者兩側切牙缺失，中切牙傾斜，使中切牙間產生2mm間隙。A缺牙間隙過小，使修復后側切牙形態(tài)偏小而中切牙形態(tài)較正常中切牙生理形態(tài)大。C的設計方案同A.D的設計方案不美觀，恢復咀嚼效率差。E的設計方案修復后兩中切牙形態(tài)偏大，側切牙可摘修復不美觀，且恢復咀嚼效率差。故選B.