[衛(wèi)生法規(guī)]初戴上頜局部義齒時(shí) 如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭粘...

原題:
[衛(wèi)生法規(guī)]初戴上頜局部義齒時(shí),如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭粘膜2mm,處理方法是
細(xì)菌大量人血并繁殖,稱為
答案:
A
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